SKハイニックス、メモリー業界で初めて量産用の次世代EUV装備を導入
SKハイニックスがメモリー業界で初めて量産用「High NA極紫外線(EUV)」装備を利川(イチョン)M16ファブ(Fab)に搬入し、記念行事を進行したと3日、明らかにした。 High NA EUV装備は、従来のEUVより大きいNA(開口数)を適用し、解像度を大幅に向上させた次世代露光装備だ。 最も微細な回路パターンの具現が可能で、線幅の縮小および集積度の向上に核心的な役割を果たす。 開口数はレンズが光をどれだけ多く集めることができるかを示す数値で、値が大きいほどより精密な回路パターンを具現することができる。 SKハイニ
2025-09-04 11:46:46