気候エネルギー環境部は18日から「用人半導体産業団地統合用水供給事業」1段階優先実施区間の施設工事に着手すると発表した。
今回の着工は、同日1段階優先実施区間事業実施計画が承認・公告されたことによるものである。気候部は半導体生産施設の建設スケジュールに合わせて用水を供給するため、設計と許可が先に完了した区間から工事を開始する。残りの区間も関連手続きが完了次第、順次着工する予定である。
用人半導体産業団地統合用水供給事業は、三星電子が入居する用人先端システム半導体国家産業団地とSKハイニックスなどが入居する用人半導体クラスター一般産業団地に工業用水を供給するための事業である。
半導体製造プロセスでは、生産過程で大規模な用水を安定的に確保することが不可欠である。政府は、二つの産業団地の用水需要が増加する時期に合わせて、日量107万2000トン規模の統合用水供給施設を段階的に構築する計画である。
1段階では、八達ダムから用人半導体産業団地まで約47㎞の専用管路と加圧所1か所を設置し、日量31万トンの用水を供給する。その後、2段階事業を通じて日量76万2000トンの供給能力を追加で確保する。
金浩恩気候部水利用政策官は「関係機関と協力し、工事過程の安全・品質など全般事項を徹底的に管理する」と述べ、「今回の着工を契機に事業推進にさらに加速をつけ、企業が必要とする時期に十分な用水が安定的に供給されるよう最善を尽くす」と語った。
* この記事はAIによって翻訳されました。
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