中国の半導体機器企業が独自に開発した浸漬型DUV装置の生産を開始し、今年中に5台を生産して顧客に納品する予定であると、アメリカのIT専門メディア「ザ・インフォメーション」が28日に報じた。報道によれば、今年の生産分はSMIC（中芯国際）、華虹半導体、CXMTなど中国の主要半導体企業に供給される。中国企業が浸漬型DUVを製造するのは今回が初めてであり、ザ・インフォメーションは今年5台が生産された後、来年には20台が出荷されると伝えている。
アメリカの制裁から7年でDUV国産化の成果
アメリカは2019年から最先端のEUV（極紫外線）露光機の中国への輸出を禁止しており、2023年からは浸漬型DUV装置に対しても中国への輸出を禁止している。中国は2019年から露光機の国産化に取り組んできており、7年を経てDUVの国産化に成功した。浸漬型DUVは、露光作業（パターニング）を一度行うことで28nmプロセスの半導体を製造できる。複数回の回路露光を行うマルチパターニング作業を経れば、7nmプロセスまで対応可能である。ただし、マルチパターニングは歩留まりが低く、製造コストが高くなるという欠点がある。
浸漬型DUVはオランダの露光機メーカーASMLが2006年に市場に投入した。中国企業が製造している装置はASMLの2008年版浸漬型DUVと性能が類似していると分析されている。算術的にはASMLと中国の露光機技術の格差は18年となる。
EUV装置は2030年に成果が見込まれる
しかし、中国がDUVを7年で国産化したことは相当な成果と評価されている。DUVの国産化は中国が28nm半導体プロセスの国産化を完成させたことを意味する。また、中国はこれを基にEUV露光機の開発にも力を入れると予想されている。中国政府は第15次5カ年計画（2026～2030年）の核心目標を「技術自立」と定め、その中で最も重要な課題は間違いなくEUV露光機の開発である。中国政府は具体的な開発時期を言及していないが、現地の半導体業界では2030年からEUV装置の開発成果が見えるようになるとの見通しが出ている。
華為関連企業がDUV開発企業として浮上
中国のDUV装置メーカーの名前は公開されていない。しかし、中国国内では華為（ファーウェイ）関連企業の宇量昇がその企業であるとの推測が出ている。昨年9月、英国のフィナンシャル・タイムズはSMICが宇量昇が製造した浸漬型DUVをテストしており、初期テスト結果が好ましい指標を示したと報じた。宇量昇の50%の株式は上海市政府傘下のベンチャーキャピタルが保有し、残りの50%は中国の半導体機器企業である新凱来が保有している。新凱来は深セン市政府傘下のベンチャーキャピタルが100%の株式を保有している。新凱来の中心メンバーは華為の精密機器開発チームのメンバーであるため、中国業界では新凱来を華為関連企業と見なしている。新凱来はEUV装置を開発しており、新凱来が直接開発しているのか、宇量昇と共同で開発しているのかは公開されていない。新凱来のEUV開発プロジェクト名は「エベレスト」である。
CXMTのHBM追撃も加速
一方、27日に上場した中国のDRAMメーカーCXMTは、初日に株価が476%急騰し、中国株式市場で時価総額1位に浮上した。特にCXMTは今回の上場を通じて最大666兆人民元を調達し、CXMTの今年上半期の純利益は570億人民元と予想されているため、CXMTは合計1236億人民元の現金を手に入れることになる。これは韓国ウォンで約27兆円に相当し、その大部分がAI用DRAMとHBMに投資されると予想されている。CXMTにとっては三星電子とSKハイニックスを追撃するための重要な資金を得たとの評価がされている。現在、CXMTとSKハイニックスの技術格差は約4年と評価されている。中国国内の証券会社のアナリストは、巨額の投資資金の確保に加え、中国政府の支援と中国のAI企業の爆発的な需要が相まって、CXMTの技術力が飛躍的に向上する可能性があると判断している。特に今後、CXMTとSKハイニックスの技術格差が2年まで縮まるとの見通しも出ている。
* この記事はAIによって翻訳されました。
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