ブルームバーグ通信は27日（現地時間）、アメリカの情報技術（IT）メディア「ディインフォメーション」を引用し、上海に本社を置く中国企業が独自に開発した液浸DUV露光装置の生産を開始したと報じた。企業名は公開されていない。
露光装置は光を利用して半導体ウェハ（チップの基盤となる薄い円盤）に微細回路を刻むための重要な設備である。液浸DUVはレンズとウェハの間に水を充填し、回路をより精密に描く装置であり、オランダのASMLが市場をリードしている。
中国企業は今年5台、来年には20台の生産を目指している。今年の生産分は中国最大のファウンドリ（半導体委託生産）企業である中芯国際（SMIC）や華虹半導体、DRAM企業の長江メモリテクノロジー（CXMT）などに供給される予定である。
ただし、中国製の装置はまだ初期生産段階であり、性能や信頼性はASMLの製品には及ばないとされている。ASMLが昨年液浸DUV装置131台を出荷したことを考慮すると、中国企業の生産規模もまだ限られている。
市場では生産規模よりも、中国が先端露光装置を自社生産し始めたことに注目が集まった。この日、オランダの株式市場ではASMLが8.4%急落した。ASMインターナショナルは7.3%、BEセミコンダクターは9.9%下落した。アメリカの株式市場でもアプライドマテリアルズが6.7%、ラムリサーチが7.9%下落した。
中国はアメリカ主導の輸出規制により、ASMLの最先端極紫外線（EUV）露光装置を輸入できない状況にある。高性能の液浸DUV装置もオランダ政府の輸出許可対象であるため、中国は露光装置を含む半導体の核心機器の国産化を推進している。
* この記事はAIによって翻訳されました。
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