2026. 05. 22 (金)

国産超純水、半導体製造プロセスに初供給…政府、SKシルトロンに技術移転

超純水実証設備の全景
超純水実証設備の全景 [写真=気候エネルギー環境部]
政府は半導体の核心プロセス用水である超純水の国産化を加速している。政府が開発した国産超純水生産技術が実際の半導体製造現場に適用され、先端産業供給網の安定化と国内水産業競争力の強化への期待が高まっている。

気候エネルギー環境部は19日、慶尚北道のグミにあるSKシルトロングミ事業所で「高純度工業用水(超純水)生産国産化技術開発事業」の成果活用協約式を開催すると18日発表した。

超純水は水中の不純物を極微量まで除去した工業用水で、半導体表面の汚染物質を洗浄するために必須である。水中のイオン物質濃度を1ppt(1兆分の1)以下、溶存酸素などの気体濃度を1ppb(10億分の1)以下に管理する高難度技術が要求される。

これまで、日本やアメリカなどの海外企業が生産技術を主導しており、国内の半導体・ディスプレイ・二次電池・バイオなど先端産業も海外技術に依存している状況であった。

これに対し、気候部はこの技術依存度を低下させ、国内水産業競争力を強化するため、2021年から超純水生産技術の国産化事業を推進してきた。

今回の実証設備は、設計から施工、運営の全過程に国内技術が適用されているのが特徴である。需要先であるSKシルトロングミ事業所に設置され、実際のプロセス環境で性能検証を完了した。

特に、有機物除去(紫外線酸化装置)、溶存酸素除去(脱気膜)、イオン除去及び水質高度化(イオン交換樹脂)など、超純水製造の核心プロセスに国内企業が開発した主要装置及び素材が適用された。これにより、長期間の運営実績も確保されたと気候部は説明している。

今回の技術移転により生産された超純水は、SKシルトロングミ事業所の半導体用ウェーハ生産プロセスに供給される。国内設計技術で生産された超純水が実際の半導体製造プロセスに供給されるのは初めてである。

業界では、今回の事例が国内企業の超純水市場への参入基盤を整えた点で意義が大きいと評価されている。半導体ウェーハは極微量の不純物にも敏感な核心素材であり、安定した超純水供給が必須であるためである。

政府は今回の成果を通じて、これまで海外技術に依存してきた超純水分野の供給網の安定性を強化し、国内水企業の技術競争力及び産業生態系の拡大にも寄与することを期待している。

また、気候危機による工業用水不足に先制的に対応し、安定した超純水供給体制を構築するため、超純水生産の全プロセスの国産化と下水再利用に基づく超純水生産を通じた原水多様化技術開発も推進する方針である。

金知映気候部水利用政策官は「今回の技術移転は超純水技術の国産化を超え、実際の産業現場への適用に繋がる重要な成果である」とし、「半導体などの先端産業の大規模投資が超純水など国内水産業の発展に繋がるだろう」と述べた。




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