昨年、産業技術保護法の改正により国家核心技術流出に対する処罰が強化されたが、半導体やディスプレイなどの先端産業の核心技術流出を防ぐには不十分との指摘がある。人工知能（AI）半導体競争が激化する中、技術流出は企業の競争力だけでなく国家の安全保障にも直結する問題となっており、処罰の強化やスパイ罪の適用範囲の拡大など、法制度の整備が求められている。
4日、国会議員情報システムによると、昨年7月に産業技術保護法改正案が施行されて以来、技術流出犯罪の処罰を強化する内容の改正法案が2件提出されている。
今年2月、キム・ウォニン民主党議員が代表発議した改正案は、国家核心技術と産業技術の流出・侵害犯罪全般に対して、懲役刑と罰金刑を引き上げる内容を含んでいる。技術流出犯罪の社会的波及効果を考慮し、処罰の強度を一層高める必要があるという趣旨である。
また、6月にはキム・ナムグン民主党議員が懲罰的損害賠償制度の実効性を高める改正案を代表発議した。技術流出が認められた場合、実損害額の最大5倍ではなく、原則として5倍を損害賠償額として算定することで、企業の被害に対する実質的な救済と予防効果を高める内容である。
これは現行の法定刑だけでは急増する先端技術流出問題を防ぐことが難しいとの問題意識が反映されている。現在、改正案は技術流出の罰金上限を従来の10倍である65億ウォンに引き上げられたが、実際の平均刑量は低く、法案の趣旨を生かせていないとの指摘がある。先端技術一つが数十兆ウォン規模の産業競争力を左右する状況で、数年の実刑だけでは急増する技術流出の誘因を断つことは難しい。
韓国経営者総協会によると、国内の核心技術の海外流出摘発件数は2021年の9件から2025年には33件に急増した。2020年以降、これによる国家経済の被害推定額は23兆ウォンに達した。
特に中国のメモリー企業がサムスンやSKハイニックスなどの国内人材を積極的に採用し、技術格差を急速に縮めているため、産業界の危機感が一層高まっている。最近、中国版ナスダック「科創板」に上場し、中国の時価総額1位に躍り出た長新メモリー（CXMT）が代表的である。CXMTはサムスン電子出身の核心技術人材を採用し、開発過程でSKハイニックスの技術も確保したとされている。
世論も処罰の強化に重きを置いている。最近、経営者総協会が実施した技術流出に関する意識調査によれば、回答者の90.7%が海外に核心技術を流出させた犯罪者に対する処罰を現在より強化すべきだと回答した。また、回答者の92.5%は核心技術の海外流出が我が国の経済に与える悪影響が「深刻である」と回答した。
韓国が主要技術保有国と比較して、技術流出犯罪に対する処罰水準が相対的に低いとの指摘もある。実際、海外と比較すると処罰の強度に大きな差がある。今年4月、国内の裁判所は半導体の核心技術を中国のCXMTに流出させた疑いで起訴されたサムスン電子の元社員に対し、懲役6年4ヶ月を言い渡した。一方、台湾ではTSMCの営業秘密と核心図面を海外に流出させた事件で、最大懲役10年が言い渡された。
産業技術保護法の改正だけでは限界があるため、国家核心技術流出を経済安全保障の観点から扱う別の法体系の整備が必要との意見が出ている。特に国家安全保障と直結する先端技術流出に関しては、スパイ罪の適用範囲を拡大するか、経済安全保障犯罪を別に規律する法律を新設するなど、より強力な制度的補完が必要との指摘がある。
ハ・サンウ経営者総協会理事は「国民の多くが核心技術の海外流出を単なる企業の問題ではなく、国家競争力と経済安全保障を脅かす問題と見ているため、制度的補完が迅速に行われるべきだ」と述べ、「核心技術の海外流出に対する強力な処罰法制の導入など、経済安全保障の観点からの対応が必要である」と強調した。
* この記事はAIによって翻訳されました。
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