中国の創新メモリテクノロジー（CXMT）が世界のDRAM市場で4位に浮上した。市場シェアは約8％で、2026年第1四半期の売上は前年同期比で719％増加した。2025年には創業以来初の黒字を達成し、現在は上海証券取引所に上場し、兆単位の資金調達を目指している。サーバー用のDDR5とモバイル用のLPDDR5Xをすでに量産していると同社は発表した。同時に、旧型のDDR4は市場価格の半分で流通させている。数年前まで「5年の差」と呼ばれていた企業である。
半導体は簡単には追いつけない産業の一つである。微細プロセスは設計図ではなく、失敗の記録によって完成するからだ。どのステップで不良が繰り返されるのか、どの条件で歩留まり曲線が折れ曲がるのかは、数千回の試行錯誤を経なければ把握できない。設備を購入することはできても、その設備を稼働させる条件を購入することはできない。韓国のメモリが30年間守ってきた参入障壁の実体は、この蓄積された時間である。
そのため、後発企業のタイムテーブルが突然前倒しされると、その根本原因を技術流出に求めることが多い。もちろん、中国の追撃を流出一つで断定することはできない。国家の補助金や巨大な内需、赤字を支える資本が同時に作用しているからだ。しかし、学習曲線が特に短くなったのであれば、誰かがその曲線を飛び越えるための資料を渡したと考えるのが自然である。
実際、そのような事件は繰り返されている。サムスン電子の18ナノDRAMプロセス情報をCXMTに渡した疑いのある元部長は、破棄還送審で懲役6年4ヶ月と罰金2億ウォンを言い渡された。SKハイニックスから華為の子会社に移り、プロセス資料を出力した疑いのある元社員は控訴審で懲役5年と罰金3000万ウォンを受けた。
業界では、5～6年の刑罰では誘因構造を超えられないと口を揃える。中国企業は核心人材に対して既存の年俸の数倍を提示する。契約期間を満了すれば、国内で20年働いても作り難い資産が残る。韓国の法網に引っかかっても、刑期を終えた後に金銭的に得をする計算になる。幸いにも、これらの事件は産業技術保護法と不正競争防止法が改正され、初審よりも刑が重くなったのがこの程度である。
罪質を規定する基準も曖昧である。流出したファイルの数、資料の市場価値、流出者が受け取った対価を基準に被害を計算しているが、実際に重要なのはファイルの数ではなく、狭まった技術格差の時間である。
産業技術の流出は、企業を裏切った個人の転職争いではない。国家が数十年間、税金と人材と時間をかけて築いた資産を競争国に移し、その対価を個人が手にすることである。処罰体系もその性格に合ったものでなければならない。量刑基準で国家核心技術の海外流出を独立した加重因子として扱い、被害額の算定基準を流出者が受け取った対価ではなく、技術を再取得するためにかかる時間とコストに移行すべきである。犯罪収益の没収・追徴が実際に執行されなければ、「服役後に残る商売」という計算が成り立たない。人材を仲介するブローカーや斡旋組織に対する別途の処罰、海外法人や協力会社を経由する迂回流出に対する監視も必要である。
技術流出の代償は致命的である。すでに汎用DRAM市場はかなりの部分を譲っているとの評価がある。中国企業がDDR4を半値で流通させ、DDR5の量産段階に入った市場で、韓国企業はシェアの低下を余儀なくされる。残された防衛線は高帯域幅メモリ（HBM）とその後の先端AI半導体である。CXMTでさえHBMでは韓国企業と2～4年の格差があることを認めている。
その格差は数件の資料で消えてしまう可能性がある。HBMはDRAMコアとベースダイ、積層とボンディング、熱設計が絡み合った技術である。個別のプロセスは推測できるが、これを同時に抑える条件は経験からしか得られない。カスタムHBMと先端パッケージングに移行する今の段階が流出に最も脆弱である。
すでに流出した技術は、どのような判決でも戻ってこない。半導体の超格差は、どれだけ早く作るかではなく、今持っている2～4年を守れるかにかかっている。
* この記事はAIによって翻訳されました。
