産業通商部は2日、国務会議でこの内容を含む『高圧ガス安全管理法施行令一部改正案』を議決したと発表した。グローバルな安全基準を満たした半導体製造装置に対して、高圧ガス一般製造施設ではなく特定設備基準を適用することが核心である。
最近、半導体の輸出は韓国経済を牽引している。先月の半導体輸出額は371億6000万ドルで、前年同月比169.4%の急増を記録した。これは、米国のビッグテック企業による設備投資の増加とメモリの固定価格上昇が影響している。
半導体を中心に韓国の輸出が『夢の1兆ドル』を達成するとの見通しも出ている。しかし、企業は先端半導体生産ラインの構築に必要な設備輸入を増やしているものの、装置導入の遅延が指摘されてきた。
このため、政府は半導体の核心工程に使用されるEUV装置の国内導入手続きを大幅に簡素化することにした。国内の半導体企業が先端製造装置を適時に導入し、迅速に稼働させることで産業の『超格差』維持に寄与することを目的としている。
これまでEUV装置は内部に高圧ガス配管および装置が含まれており、高圧ガス製造設備として分類されていた。そのため、装置設置のたびに技術検討や中間検査、完成検査を受ける必要があり、装置導入には約34日かかっていた。中間検査の過程では海外公認検査機関による内圧気密検査が必要で、装置ごとに検査費用5億ウォンも必要であった。
これにより、技術検討期間は現在の15日から2日へ、中間検査は省略され、完成検査は7日から2日へと短縮される。総所要期間は34日から9日へと大幅に短縮される見込みであり、中間検査に伴う費用負担も軽減されると考えられる。
また、水や洗剤の代わりに二酸化炭素を使用して洗浄する環境に優しい『液化二酸化炭素洗浄設備』が商業化できるように、カスタマイズされた検査基準を新設するなど規制を合理化する。商業用液化二酸化炭素洗浄設備や高圧ガス貯蔵施設など、危険性の低い高圧ガス施設の安全管理者選任基準も現実に即して整備された。
改正案は来週公表後、即時施行される。金正官産業部長官は「今回の法令改正は安全確保と先端産業競争力強化を同時に達成する代表的な規制革新の事例である」と述べ、「グローバル基準に合致した合理的な安全管理体系を通じて先端産業投資を積極的に支援する」と語った。
* この記事はAIによって翻訳されました。
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