SKハイニックスが韓国の半導体用特殊ガス企業「TEMC」と協業し、半導体業界で初めてネオン(Ne)ガスリサイクル技術を開発したと1日、明らかにした。
最近、国際情勢の不安で輸入に依存してきたネオンの需給不確実性が大きくなると、国内の素材・部品・装備企業とともにリサイクル技術の開発に乗り出し、約1年ぶりに成果を成し遂げたのだ。
先立って、SKハイニックスは2月、「リサイクル素材使用中長期ロードマップ」を発表し、2025年までにリサイクル素材比率25%、2030年までに30%以上に増やすという目標を明らかにしたことがある。
ネオンは希少ガスの一つで、半導体露光工程に欠かせないエキシマレーザーガス(Excimer Laser Gas)の主要成分だ。 ネオンはレーザー光源として活用する時、化学的に分解されたり、変形されないため、使用後の不純物除去など分離と精製さえ経れば、リサイクルできる。
SKハイニックスとTEMCはこの点に注目し、露光工程後にスクラバー（工程中に発生するガス、化合物などをろ過して除去する装置）を通じ、空気中に排出されたネオンガスを収集タンクに捕集し、TEMCのガス処理過程を通じてネオンだけ選択的に分離して精製した。
このように精製されたネオンは再びSKハイニックスに供給され、半導体製造工程に使われる。 現在、ネオン回収率（排出量·捕集量·精製収率）は72.7%に達する。 今後、精製収率を改善し、ネオン回収率を77%まで高める計画だ。
今回の技術開発は各分野の専門知識を持つ素材・装備協力会社と協力して作った成果だ。 今後も協力会社とパートナーシップを発展させていく方針だ。
ネオンリサイクル技術が半導体ファブ(半導体生産施設・fab)に適用される場合、年間400億ウォン相当のネオン購買費用が減るものと予想される。 また、ネオン生産過程での温室効果ガス排出量(Scope3・その他間接排出)を1万2000tCO2e/yrほど減らす効果も創出するものと予想される。
ネオンリサイクル技術の開発を主導したSKハイニックス炭素管理委員会素材リサイクル分科は半導体工程で化学的に分解や変形しないすべての素材のリサイクルを最終目標にしている。
分科は2025年までに△ネオン △重水素（D2） △水素（H2） △ヘリウム（He）など4つのガス素材と硫酸（H2SO4）など化学素材をはじめ、計10の原材料のリサイクル技術を開発する計画だ。 2030年までには化学的変形のないすべての素材に対する技術検討を完了する計画だ。
このため、リサイクル技術を「技術成熟度」によって5段階に分類し、2025年までにネオンなど10の原材料に対して少なくとも3段階（素材認証）以上の技術確保を推進しようとしている。
SKハイニックスは海外依存度の高い素材の需給問題を解決し、半導体製造全般のバリューチェーン(Value Chain)にわたって排出される温室効果ガスを削減し、環境問題の解決に貢献する方針だ。
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