［写真＝SKシルトロン］
半導体ウェハー製造企業のSKシルトロンは世界4位のDRAM企業である台湾の南亜テクノロジー Nanya Technology）とESG(環境·社会·支配構造)および炭素中立協力を強化するために業務協約を締結したと20日、明らかにした。
両社は炭素足跡関連データを共有し、製造過程で発生する温室効果ガス排出量を測定するために標準化プラットフォームを共同構築する計画だ。 今後構築するプラットフォームを通じ、温室効果ガス排出の主要原因を識別し、炭素足跡削減のための効果的なソリューションを発掘する計画だ。
SKシルトロンは2040年までにネットゼロ(NetZero)を宣言して以来、「炭素を最も少なく排出するウェハー製造企業」というスローガンを掲げ、低炭素ウェハーメーカーを目指している。 南亜テクノロジーは2030年までに2020年比温室効果ガス25%削減を目標に履行中だ。
また両社は昨年、グローバル持続可能性評価機関である炭素情報公開プロジェクト（CDP）から気候変動対応部門、水経営部門で最上位等級のリーダーシップ等級を受けている。
SKシルトロン関係者は“半導体ウェハー供給会社として顧客と共に半導体業界の温室効果ガス削減に持続的に寄与する”と述べた。
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