政府は半導体工場の稼働を前倒しするため、産業団地の許可、補償、設計を同時に進める方針を打ち出した。工場建設や設備修理、試作品試験の待機時間を短縮し、超広域特区内の核心研究開発（R&D）人材に対する労働時間特例も検討する。
産業通商部は23日、青瓦台の迎賓館で開催された規制合理化委員会第2回全体会議において、関係省庁が共同で「メガプロジェクト半導体投資の迅速な実施に向けた規制合理化策」を発表した。
今回の対策は、半導体投資過程で順次進めていた手続きを並行して行い、各省庁の重複した行政手続きを削減することに焦点を当てている。半導体工場は生産施設だけでなく、電力や水などの基盤施設も整備する必要があり、一部の許可が遅れると全体の投資スケジュールが遅延するとの判断からである。
政府は半導体産業団地の許可、補償、設計を同時に進めるファストトラックを導入する計画である。関連する産業立地法改正案は、7月30日に提出された。
半導体クラスターが超広域戦略産業特区に指定されると、基盤施設の許可を一括で処理できる範囲も拡大する。半導体特別法に基づく許可の合意に加え、追加の許可も一括処理できるように超広域特区法に反映する方針である。
保税・通関分野では、産業団地全体を総合保税区域に指定する方策を拡大し、企業の負担を軽減する。現在はファブごとに保税工場の特許を取得し、5～10年ごとに更新する必要があるが、団地単位で指定すれば企業の負担を減らし、外国製設備や原材料の持ち込み、加工、移動を円滑に行える。
国内の半導体輸出の95%は保税工場で製造・加工されている。
工場建設に使用する外国製分析機器や測定機器についても、税金の納付を猶予することができる。現在は保税建設場に設置する外国製機械・設備とは異なり、工事用設備は税金を納めた後に使用しなければならず、初期資金の負担が発生する。
設備故障による生産の遅れを減らすため、海外法人で生産された半導体製造設備の修理部品を国内の保税工場に事前に保管することも許可される。空港や港から遠く離れた地方の優良保税工場は、一定の要件を満たせば事前承認品目を先に運送し、移動中に輸出申告を行うことができるように規則を改正する。
有害化学物質の取り扱い作業に関する重複手続きも見直す。産業安全衛生法に基づく請負承認を受ければ、化学物質管理法に基づく請負報告を行ったものと認める方針である。
高圧ガスについては、半導体生産現場に適した別の安全基準特例を設ける。複数のシリンダーキャビネットを設置する際、技術検討と変更許可を一括で処理し、互いに反応しないガスは一緒に保管できるようにする計画である。
超広域特区内の半導体核心R&D人材については、労働時間特例を検討する。技術開発に集中すべき時期に研究時間を確保できるようにする意図である。適切な補償と健康権保護を前提に、労働界・経営界と協議する方針である。
国内の素材・部品・設備企業が開発した技術を実際の生産環境で試す機会も増やす。公共性を持つ非営利の半導体テストベッド運営法人が企業から施設・設備を無償で提供される場合、贈与税を課さない特例を導入する。企業の設備寄付を促し、実証基盤を広げる措置である。
保税工場で製造したR&D試作品を外部に持ち出して検査・試験する手続きも簡素化する。現在は個別に事前持ち出し許可を受ける必要があるが、自主管理能力を備えた優良保税工場などは持ち出し手続きを減らし、技術検証と新製品の発売を支援する。
政府は大統領主催の半導体産業競争力強化特別委員会を通じて省庁間の現案を調整し、20日に発足した産業部半導体革新成長支援団が企業の投資実行を常時支援する計画である。工場建設計画から着工・稼働まで企業ごとのスケジュールを確認し、地方政府に関連する現案も調整する。
大規模な地方投資を支える超広域特区法の制定も推進する。企業が必要な規制特例を選択したり、現場の需要に応じて規制を猶予できるようにし、範囲を超えた支援をまとめて提供する内容である。
金正官産業部長官は「半導体競争は時間との戦いである」と述べ、「安全と労働者の権利を守りつつ、現場に合わない手続きは大胆に改善する」と語った。
* この記事はAIによって翻訳されました。
