2026. 10. 23 (金)

中国が0.1ナノ半導体分析装置の顕微鏡を開発

  • 国儀量子、200kV級電界放出透過電子顕微鏡を公開

  • 半導体欠陥分析・核心装置の自立基盤強化

国儀量子が発表した電子顕微鏡TEM-F200の写真
国儀量子が発表した電子顕微鏡TEM-F200 [写真=国儀量子]
中国は半導体と先端材料の原子レベルの分析に必要な高級透過電子顕微鏡(TEM)を国産化した。

中国の科学機器メーカーである国儀量子(CIQTEK)は、先日南京で開催された『2026年全国電子顕微鏡学学術大会』において、200kV級電界放出透過電子顕微鏡『TEM-F200』を公開した。この製品は中国の半導体業界で高く評価されていると、上海証券報が22日に報じた。

この製品は情報分解能が0.1ナノメートル(nm)、点分解能が0.25nmを実現しており、量産と納品が可能な段階に達している。国儀量子は中国安徽省合肥市に拠点を置く量子精密測定および高級科学機器の開発企業であり、電子顕微鏡を含む精密分析機器の研究開発・製造・販売・サービス能力を構築してきた。今回の製品は、核心モジュールから制御・分析ソフトウェア、システム統合まで自社開発した。電子銃や高電圧電源、電子光学系、検出器などを安定的に連動させる200kV級装置の技術的課題を解決したと同社は説明している。

半導体産業において透過電子顕微鏡は、チップ内部の微細構造を観察するための核心分析装置である。半導体の断面を高解像度で観察し、トランジスタ構造や薄膜の厚さ、材料間の界面、結晶配列などを分析できる。プロセス過程で発生した微細な孔や欠陥、不純物の原因を特定し、デバイスの性能と信頼性を検証するためにも活用される。微細化が進むにつれて、欠陥の原因を正確に把握する能力が歩留まりと先端プロセス開発の競争力を左右する。

グローバル市場では、アメリカのサーモフィッシャーサイエンティフィックや日本の日本電子、日立などが主要な供給業者とされている。これらの企業の200kV級主力製品は情報分解能が約0.11〜0.12nm程度であり、国儀量子の新製品は主要性能指標でグローバルリーダー製品に近づいている。今回の国産化により、中国の半導体企業は装置の購入だけでなく、核心部品の調達やメンテナンス、ソフトウェアサポートにおいても海外企業への依存度を低下させることができるようになった。



* この記事はAIによって翻訳されました。
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