サムスン電子-ジョンズ・ホプキンス大学、「次世代ペルチェ冷却技術」で「2025 R&Dアワード」受賞

[写真=サムスン電子]
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サムスン電子とジョンズ・ホプキンス大学の応用物理学研究所(Johns Hopkins APL)が産学協力を通じて進行した「次世代ペルチェ冷却技術」研究が米国R&Dワールドマガジン(R&D World Magazine)が主管する「2025 R&D 100アワード(R&D 100 Awards)」の「100大革新技術」に選ばれた。

1963年に制定された「R&D 100アワード」は毎年科学技術分野の発展に寄与した最も革新的な100大科学技術を選定する世界的権威の賞で、「産学革新のオスカー賞」、「工学のノーベル賞」と呼ばれる。

「R&Dワールドマガジン」はサムスンリサーチのライフソリューションチームとジョンズ・ホプキンス大学研究陣が世界で初めてナノ工学技術を活用して「高性能薄膜ペルチェ半導体素子」を新しく開発し、これを活用した高性能ペルチェ冷蔵庫を実証することに成功したと受賞理由を明らかにした。

また、研究チームは既存と全く異なる半導体薄膜蒸着方式の生産工程を導入し、既存冷媒対比冷却効率を約75%向上させ、小型化・軽量化も同時に達成したと言及した。

ペルチェ冷却技術は冷媒を使わないエコ・非化学的次世代冷却方式で、早くて精密な温度制御が可能だ。

これを通じ、△家電 △半導体 △医療機器 △電装 △データセンターなど多様な産業分野での活用可能性が注目されている。

この成果は今年5月、世界的な学術誌「ネイチャー・コミュニケーションズ(Nature Communications)」に掲載された。
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