政府は半導体・フィジカルAIなどの「3大メガプロジェクト」の推進に加速をかけているが、産業界は大規模な投資計画を実際の着工と生産に結びつけるための基盤整備が急務であると一致している。数百兆ウォン規模の企業投資が予定されているが、電力・用水・用地の確保から許認可、人材運用まで解決すべき課題が山積している。
政府は省庁の壁を取り払い、規制を緩和すると公言しているため、これまで産業界が求めてきた核心的支援策が実際の政策にどれだけ反映されるかに注目が集まっている。
10日、産業界によると、半導体業界がメガプロジェクトの前提条件として求めているのは「安定した電力と用水の供給」である。最先端の半導体ファブは膨大な電力を使用し、生産過程で大量の超純水が必要である。工場建設に合わせて送電網や変電所、用水供給施設が適時に整備されない場合、ファブを完成させても正常な稼働が遅れる可能性がある。
全英賢サムスン電子DS部門長（副会長）は最近の政府の行事で「電力と用水はAI時代における最も重要な産業インフラ」と述べ、国家レベルでの安定した供給と価格競争力の確保を求めた。原発の拡大や電力購入契約（PPA）の活性化、液化天然ガス（LNG）熱電併給発電など安定した電力供給策も求めている。郭弥正SKハイニックス代表取締役（社長）も「半導体生産ファブを建設するには大規模な用地と安定した電力、用水などのインフラの確保とタイミングが重要である」と強調した。
迅速な許認可と用地確保も核心的課題である。業界では送電網と用水供給施設に関して住民の受容性や許認可問題が絡んでいるため、ファブ建設よりも長期間がかかる可能性を懸念している。
特に新たな産業基盤を構築しなければならないホンナム圏では、軍用空港機能の移転・分散から用地の引き渡し、国家産業団地の開発計画の策定、各種許認可と基盤施設の整備をファブの創成と同時に進める必要がある。既存の手続きに従って事業を順次進める場合、政府が目指す投資スケジュール自体が遅れる可能性があるとの指摘がある。
人材確保と定住環境の改善も課題に挙げられている。半導体工場は数千人の研究開発（R&D）人材だけでなく、素材・部品・設備の協力企業の人材も移動する必要があるため、教育・居住・交通インフラが支えられなければ地域クラスターの構築に限界がある。
最近では週52時間制の例外適用など規制特例問題も浮上している。メガ特区法に半導体R&D人材の週52時間制の例外を含める問題について関係省庁間で意見の相違が見られている。業界では中国が攻撃的な投資と人材投入を背景にメモリ技術の格差を急速に縮めている状況で、インフラ構築だけでなく研究開発人材の運用を含む規制改善も並行して進めるべきだと求めている。
このような産業界の要求に対し、政府も全方位的な支援を約束した。李在明大統領はこの日、第2回メガプロジェクト民間共同点検会議の冒頭発言で「省庁の壁や規制、インフラ不足などの問題で企業の投資意欲が削がれたり、手続きが遅延しないように総合的な点検が必要である」と述べ、「現在の段階では何よりも用地と基盤施設が重要である」と強調した。前述の通り、李大統領はワンストップ行政支援はもちろん、電力・用水問題を直接管理する方針も明らかにしている。
業界関係者は「大規模な先端産業投資は企業の投資決定だけでスピードを出せる事業ではない」とし、「電力と用水、用地、許認可、人材が同時に準備される必要があるため、政府が各省庁の利害関係をどれだけ迅速に調整し、実際の事業期間を短縮できるかが鍵となる」と述べた。
* この記事はAIによって翻訳されました。
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