[SKC、半導体工程の核心素材「ブランクマスク」ハイエンド級の国産化に拍車]
SKCが半導体露光工程の核心素材に使われる「ブランクマスク」ハイエンド級製品の国産化に乗り出した。 ブランクマスクは半導体ウェハーに電子回路パターンを刻む時に使われる核心素材で、このうち、ハイエンド級ブランクマスクは輸入に依存してきた。
SKCは最近、忠清南道天安(チョンアン)のハイエンド級ブランクマスク工場で、顧客会社認証用の試作品の生産を本格化した。 約430億ウォンを投資し、昨年4月に工場建設に着手したSKCは昨年12月に完工し、量産の準備をしてきた。 顧客会社の認証を経て、早ければ今年、商業化に乗り出すのが目標だ。
ブランクマスクは半導体ウェハーに回路を刻む時に使うフォトマスクの原材料だ。 クォーツの上に金属膜と感光膜を塗布して作る。 これに回路パターンを形状化すれば、フォトマスクになる。 フィルムで言えば、撮影前のフィルムがブランクマスク、撮影後のフィルムがフォトマスクだ。
ブランクマスクの市場規模は毎年拡大している。 半導体メーカーが積極的に増設に乗り出し、需要が増えていて、工程が微細化され、工程別の使用量が増加したためだ。 独自調査によると、2018年に8000億ウォン水準だった世界市場規模は毎年7%ずつ成長し、25年には1兆3000億ウォン水準に成長する見通しだ。
このうち、95%ほどを日本のグローバル企業2社が占めている。 特にハイエンド級市場は99%以上を占めているという。 参入障壁が高いほうであるからだ。 韓国も半導体製造に必要なハイエンド級ブランクマスクの大半を輸入に依存している。
SKCはこれまで培ってきた技術ノウハウを基に、事業に進出した。 ブランクマスクは金属膜と感光膜をナノメートル単位の薄い厚さでクォーツに塗布しなければならない。 ハイエンド級はもっと薄く、数回均一に塗布しなければならない。 SKCはこれに必要な真空蒸着(sputtering)技術と経験を持っており、招待政務陣管理の経験がある。
SKCの関係者は"数年間、BM革新を進めてきたSKCは1段階の革新を終え、半導体、モビリティ、エコ、ディスプレイ事業を中心に2段階のBM革新を推進している"とし、"天安に設けたSKCの半導体素材クラスターを中心に、半導体事業を高度化し、国産化率を高めるために努力する"と述べた。
<亜洲日報の記事等を無断で複製、公衆送信 、翻案、配布することは禁じられています。>
