サムスン電子は30日、2026年第1四半期の業績発表カンファレンスコールで、「今年はAI需要の継続により、設備投資額が前年に比べて大幅に増加する見込みである」と発表した。技術リーダーシップを確保するため、次世代プロセスや要素技術の先行研究開発投資を拡大するという。
さらに、「未来の需要に積極的に対応するため、戦略拠点を強化し、追加インフラを確保することで、急変する市場を綿密にチェックしながら柔軟に投資を実行する計画である」と強調した。
第1四半期の設備投資は11兆2000億ウォンで、前四半期比9兆2000億ウォン減少した。部門別では、DSが10兆2000億ウォン、ディスプレイは6000億ウォンである。
サムスン電子は、「メモリー分野では、昨年末に平沢事業所の新しいクリーンルーム導入などの投資を先行反映したため、前四半期比で投資支出が減少した。今年はそのスペースを活用した設備投資が拡大し、全体の設備投資も大幅に増加する見込みである」と述べた。
また、「ファウンドリーでは、昨年第4四半期に米国テイラー工場の主要インフラ投資が基底効果として作用し、前四半期比で投資支出が減少した。テイラー稼働のための投資は第2四半期から始まり、今年は継続的に増加する見込みである」と述べた。
サムスン電子は、研究開発（R&D）と設備投資（CAPEX）を含め、今年110兆ウォンを投資すると発表している。このうちR&Dに40兆ウォン、CAPEXに70兆ウォンを投入する予定である。
* この記事はAIによって翻訳されました。
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