ワークサイズは５０ミリメートル角。波長２００ナノメートル以下、露光エリアは直径３０ミリメートル。露光方式はプロキシミティか、コンタクト。装置本体サイズは幅６８０ミリ×奥行き７００ミリ×高さ６２０ミリメートル。電源ユニットサイズは幅３００ミリ×奥行き４５０ミリ×高さ２８０ミリメートル。
使用する窒素ガスは毎分１０リットルで、従来のエキシマガスレーザーなどに比べ大幅なコスト低減が可能。
（亜洲経済オンライン）
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ウシオ電機はフォトレジストを使わずに直接フレキシブル基材などに微細なパターニングができる真空紫外平行（ＶＵＶ）ユニットを開発した。４月に研究開発向けに販売する。パターニング解像度はラインアンドスペース（隣り合う配線同士の間隔）で５マイクロ―５マイクロメートル以下を実現した。自己組織化膜（ＳＡＭ）上へのパターン形成や、有機エレクトロニクスの高精度化・高精細化が期待できる。価格は１台５５０万―７５０万円（消費税抜き）。
ワークサイズは５０ミリメートル角。波長２００ナノメートル以下、露光エリアは直径３０ミリメートル。露光方式はプロキシミティか、コンタクト。装置本体サイズは幅６８０ミリ×奥行き７００ミリ×高さ６２０ミリメートル。電源ユニットサイズは幅３００ミリ×奥行き４５０ミリ×高さ２８０ミリメートル。
使用する窒素ガスは毎分１０リットルで、従来のエキシマガスレーザーなどに比べ大幅なコスト低減が可能。
（亜洲経済オンライン）
ワークサイズは５０ミリメートル角。波長２００ナノメートル以下、露光エリアは直径３０ミリメートル。露光方式はプロキシミティか、コンタクト。装置本体サイズは幅６８０ミリ×奥行き７００ミリ×高さ６２０ミリメートル。電源ユニットサイズは幅３００ミリ×奥行き４５０ミリ×高さ２８０ミリメートル。
使用する窒素ガスは毎分１０リットルで、従来のエキシマガスレーザーなどに比べ大幅なコスト低減が可能。
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