[サムスン電子の施設投資46.2兆ウォン、史上最大…前年比20.7兆ウォン増加]
サムスン電子は今年の施設投資規模は計46兆2000億ウォンで、歴代最大規模に達すると31日、発表した。
これは昨年の25兆5000億ウォン比20兆7000億ウォン(81.2%)増加したもので、従来の史上最大規模だった2015年25兆5200億ウォンも超えたのだ。
事業別では半導体29兆5000億ウォン、ディスプレイ14兆1000億ウォン水準だ。
サムスン電子は3四半期の施設投資は10兆4000億ウォンで、半導体に7兆2000億ウォン、ディスプレイに2兆7000億ウォンが投資されたと伝えた。 3四半期までの累積では32兆9000億ウォンが執行された。
メモリーの場合、Vナンドの需要増の対応に向けた平沢(ピョンテク)1ラインの増設とDラム工程への転換に向けた投資が進められており、ファウンドリーは10ナノ工程生産ラインの増設に投資されている。
ディスプレイの場合はフレキシブル有機発光ダイオード(OLED)パネルの顧客ニーズに対応するための生産ラインの増設投資が進行中だ。
サムスン電子は4四半期の投資は相当部分が半導体事業に投資される予定であり、主に新規敷地の造成とクリーンルームの工事などインフラ構築に使われるものと伝えた。
<亜洲日報の記事等を無断で複製、公衆送信 、翻案、配布することは禁じられています。>
